俄罗斯光刻机亮相,突破欧美封堵!

据悉,这台俄罗斯首台光刻机已经完成制造并正处于测试阶段。该光刻机采用了先进的技术和设计,具备高精度、高稳定性以及高效率的特点。5月25日讯,根据海外媒体的报道,俄罗斯已经成功制造了该国首部光刻机,并且正在进行测试工作。这一发展被俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克所确认,他进一步指出,这台光刻机将使得35

据悉,这台俄罗斯首台光刻机已经完成制造并正处于测试阶段。该光刻机采用了先进的技术和设计,具备高精度、高稳定性以及高效率的特点。

5月25日讯,根据海外媒体的报道,俄罗斯已经成功制造了该国首部光刻机,并且正在进行测试工作。

这一发展被俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克所确认,他进一步指出,这台光刻机将使得350纳米技术节点的芯片生产成为可能。

虽然从全球半导体技术的发展趋势来看,350纳米工艺相对较为落后,但该技术在汽车、能源及电信等关键行业领域仍具备显著的应用潜能,因此对俄罗斯而言,它仍具有重要价值。

此次光刻机的研制标志着俄罗斯在自主半导体技术领域取得了重要的进展,有望降低国家对外来高科技产品的依赖,进而提高本国产业的自给自足能力以及市场竞争力。

俄罗斯政府之前曾宣布过其半导体产业发展规划,旨在到2026年实现65纳米工艺节点,2027年达到28纳米工艺节点的本土化生产,并在2030年前达成14纳米芯片的国产化目标。

值得注意的是,俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构早前宣称,其下属的应用物理研究所正致力于开发一款创新的光刻机,该设备预计在2028年能够生产出7纳米工艺的芯片,并有潜力超越现有的同类产品,包括荷兰ASML公司的相应设备。

俄罗斯光刻机亮相,突破欧美封堵!

原标题:欧美封堵无效!俄罗斯光刻机亮相:7nm必拿下 ASML不淡定

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